布图设计

根据《集成电路布图设计保护条例》及《集成电路布图设计保护条例实施细则》的有关规定，相关权利人需要向国家知识产权局提出登记申请，经审查登记后方可享有集成电路布图设计专有权。

一、以书面形式申请布图设计登记，应当提交：

　　（一）布图设计登记申请表（一式两份）；

　　登记申请表应当写明下列各项：

　　1、申请人的姓名或者名称、地址或者居住地；

　　2、申请人的国籍；

　　3、布图设计的名称；

　　4、布图设计创作者的姓名或者名称；

　　5、布图设计的创作完成日期；

　　6、该布图设计所用于的集成电路的分类；

　　7、申请人委托专利代理机构的，应当注明的有关事项；申请人未委托专利代理机构的，其联系人的姓名、地址、邮政编码及联系电话；

　　8、布图设计有条例第十七条所述商业利用行为的，该行为的发生日；

　　9、布图设计登记申请有保密信息的，含有该保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数；

　　10、申请人或者专利代理机构的签字或者盖章；

　　11、申请文件清单；

　　12、附加文件及样品清单；

第一章 总则

    第一条 为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展，制定本条例。     
    第二条 本条例下列用语的含义：

    （一）集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品； 

    （二）集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置； 

    （三）布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织； 

    （四）复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；

    （五）商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。 

    第三条 中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。